UV光解凈化法釆用高能UV紫外線，照射納米光觸媒，觸媒表面會釋放出活性極強的空穴/電子對，激發觸摸表面的水分子產生羥基自由基。（.0H ）是一種費要的活性氧，從分子式上看是由氫氧根（0H-）失去 一個電子形成。羥基自由基具有極強的電子能力也就是氧化能力，氧化電位2.8v。是自 然界中僅次于氯的氧化劑。同時光觸媒表面 還產生02、02-、02+、OH、H02、0等氧簇聚集體，異有極強的氧化能力。
上述高活性物質與有機分子發生一系列鏈式反應，并利用自身反應產生的能量維系氧化反應，進一步氧化有機物質，生產二氧化碳和水以及其它小分子，而且可以在極 短的時間內達到很高的處理效率。在光解凈化設備內，裂解氧化惡臭物質分子鏈，改變 物質結構，將高分子污染物質裂解、氧化為低分子無害物質，其脫臭效率可達到99%。
適用領域：有機和無機物惡臭氣體的脫臭凈化處理。煉油廠、橡膠廠 、皮革廠、印刷廠、化工廠、中西藥廠、金屬鑄造廠、塑料再生廠、噴涂溶劑等有機和無機物惡臭氣體的廢氣凈化治理。
適合低濕度、低濃度、小分子有機廢氣。
UV光解凈化法釆用高能UV紫外線，照射納米光觸媒，觸媒表面會釋放出活性極強的空穴/電子對，激發觸摸表面的水分子產生羥基自由基。（.0H ）是一種費要的活性氧，從分子式上看是由氫氧根（0H-）失去 一個電子形成。羥基自由基具有極強的電子能力也就是氧化能力，氧化電位2.8v。是自 然界中僅次于氯的氧化劑。同時光觸媒表面 還產生02、02-、02+、OH、H02、0等氧簇聚集體，異有極強的氧化能力。
上述高活性物質與有機分子發生一系列鏈式反應，并利用自身反應產生的能量維系氧化反應，進一步氧化有機物質，生產二氧化碳和水以及其它小分子，而且可以在極 短的時間內達到很高的處理效率。在光解凈化設備內，裂解氧化惡臭物質分子鏈，改變 物質結構，將高分子污染物質裂解、氧化為低分子無害物質，其脫臭效率可達到99%。
適用領域：有機和無機物惡臭氣體的脫臭凈化處理。煉油廠、橡膠廠 、皮革廠、印刷廠、化工廠、中西藥廠、金屬鑄造廠、塑料再生廠、噴涂溶劑等有機和無機物惡臭氣體的廢氣凈化治理。
適合低濕度、低濃度、小分子有機廢氣。
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